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中国最牛的光刻机厂商:全球拿下37%份额,国内85%份额

说起光刻机,大家最先想到的是谁,当然是ASML,这可是真正的巨无霸,全球唯一能够生产EUV光刻机的厂商,另外在DUV等光刻机领域,也是霸主。

而除了ASML之外,日本还有尼康、佳能,中国大陆还有上海微电子,这三家企业相对于ASML,不管是技术水平,还是市场份额,确实低很多。

如下图所示,这是三家厂商在光刻机领域领域的市场份额情况,ASML一家就独占80%+份额。

但事实上,大家不知道的是,这里的份额,主要指的是前道光刻机。

光刻机其实分为两种,一种是前道光刻机,用于芯片制造的光刻机,比如EUV、DUV这些,这一块确实是ASML、尼康、佳能这三大厂商称雄。

但还有一种叫做后道光刻机,用于芯片封装的光刻机,这一种光刻机实现高性能的先进封装,相对于前道芯片制造的光刻机而言,技术难度相对较小一些,但也是芯片制造过程中不可或缺的,这一块,国产光刻机的力量可是很强大的。

近日,国产光刻机龙头上海微电子的数据显示,目前其后道封装光刻机在全球市场的市占率为37%,在中国大陆市场的占有率高达85%,还有LED系列光刻机全球市占率55%。

去年的时候,上海微电子更是推出中国第一台2.5D/3D先进封装光刻机,并且正式交付客户,全球的封装大厂,均大量采购了上海微电子的光刻机进行芯片封装。

可见,虽然在前道光刻机领域,国产并不是特别给力,市场份额很少,但在后道光刻机领域,还是相当给力的,全球占三分之一,国内更是处于垄断地位,并不逊色于其它光刻机巨头,只是大家的赛道不同而已。

事实上,除了后道光刻机很强之外,从前道技术来看,上海微电子的光刻机,也并不是那么的差,也是有一战之力的。

如上图所示,上海微电子与佳能,其实是一档的,实现了ArF、KrF、i线、G线,工艺制程是90nm+,只要再进前一点,就可能达到ArFi,也就是浸润式光刻机,那就相当于达到7nm了。

所以说,别小看了国产光刻机,它在后道这一块,已经是全球巨头了,在前道这一块,起步晚,所以比ASML等差一些,但已经在追赶了,估计很快就会追上的。

       原文标题 : 中国最牛的光刻机厂商:全球拿下37%份额,国内85%份额

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