光刻机设备
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莱尔德热系统宣布推出用于下一代光电设备的全新微型热电制冷器产品线
2024年11月12日 --- 莱尔德热系统（Laird Thermal Systems）宣布扩展微型热电制冷器产品线，并推出OptoTEC™ MBX系列，该系列适用于空间受限的高性能光电应用
莱尔德 2024-11-20 -
半导体设备大厂，发出悲观预测
本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合 应用材料预测第一财季营收71.5亿美元低于预期，第四财季中国营收占比下滑至30%。 11月14日，美国最大的芯片制造设备制造商应用材料公布了第四财季业绩
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半导体设备市场迎暖冬
本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合 中日半导体设备厂商业绩均冲高。 日本各大半导体制造设备厂商的业绩表现出色，主要买家来自中国。 11月12日，Tokyo Electron（TEL）上调了2024财年（截至2025年3月）的最高利润预期
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小米的3nm和燕东微用的光刻机
文：诗与星空 ID：SingingUnderStars 最近一则消息沸沸扬扬，北京电视台在一次例行的新闻播报中，称小米自研了3nm的手机芯片。 开香槟的和冷嘲热讽的皆有之，后者居多
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半导体设备产业链，谁是盈利最强企业？
半导体设备位于半导体产业的上游，包括硅片制造设备、晶圆制造设备和封装测试设备，是发展半导体产业的重要支柱。盈利能力通常表现为一定时期内企业收益数额的多少及其水平的高低。盈利能力的分析，就是对公司利润率的深层次分析
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业绩暴雷！ASML股价继续大跌：想卖先进光刻机给中国厂商 但不被允许
快科技10月17日消息，由于业绩暴雷，这导致光刻机龙头ASML股价暴跌，而两天时间股价已跌超20%。 据官方公布的数据看，阿斯麦（ASML）今年第三季度接到的订单大幅减少，总订单金额约为26亿欧元，不到上一季度近56亿欧元的一半
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全球光刻机巨头业绩“爆雷”，阿斯麦单日股价跌幅创26年之最
日前，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布的财报，由于财报数据远低于预期，阿斯麦的股价在短时间内出现了大幅波动，创下了近年来的单日最大跌幅。 阿斯麦发布的财报显示，公司在2024年第三季度的订单额仅为26.3亿欧元，环比下降53%，远低于市场预期的53.9亿欧元
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东芝推出面向车载直流有刷电机的新款栅极驱动器IC，助力缩小设备尺寸
中国上海，2024年9月10日——东芝电子元件及存储装置株式会社（“东芝”）今日宣布，推出面向车载直流有刷电机的新款栅极驱动器IC[1]
东芝 2024-09-10 -
被美国要求不能帮中国厂商维修、更不能卖光刻机：ASML称要反击了
快科技9月5日消息，据国内媒体报道称，ASML CEO公开回应了对华出口限制，他们会有更多应对措施（反击措施）。 荷兰计算机芯片设备供应商ASML首席执行官Christophe Fouquet当地时
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【洞察】半导体设备零部件用陶瓷涂层助推半导体设备升级 未来市场潜力巨大
随着半导体产业的快速增长，以及国家政策的支持，半导体设备零部件用陶瓷涂层的市场需求持续上升，特别是在5G、物联网及人工智能等新兴技术推动下，对高端半导体设备的需求不断增加，从而带动了对高性能陶瓷涂层的需求
半导体设备零部件 2024-08-28 -
日本芯片设备公司，盆满钵满
前言： 全球芯片产业供应链在近年来面临调整，一些地区的芯片制造产能扩张，这也带动了对芯片设备的需求。 日本芯片设备公司凭借其技术和产品优势，能够在供应链调整中获得更多订单。 作者 |
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电机驱动解决方案，SS8847T助力家电设备性能提升
SS8847T芯片是一款双H桥电机驱动器，工作电压：2.7V～16V；支持PWM调光；能够精确控制电机的速度和方向，可驱动两个直流电刷电机、双极步进电机、螺线管或其他感应负载；每个通道的电流可负载输送高达1.0A，可pin-to-pin兼容替代TI的DRV8847
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电源管理芯片（PMIC）精准控制让设备更智能、更高效
电源管理芯片是在电子设备系统中担负起对电能的变换、分配、检测及其他电能管理的职责的芯片.主要负责识别CPU供电幅值，产生相应的短矩波，推动后级电路进行功率输出。电源管理芯片是指在电子设备系统中，负责对
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今年全球半导体设备销售额将突破千亿大关
前言： 当前，半导体制造出现改善迹象，国产替代如火如荼，半导体设备企业订单充裕，整个行业景气趋势高涨； 由于，各大厂在AI终端方面持续投入，具备AI性能的芯片不断推陈出新，有望驱动新一轮换机需求。
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可量产0.2nm工艺！ASML公布超级EUV光刻机：但死胡同也不远了
ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右，也就是2埃米。 ASML
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光刻巨人倒下，他如何带领阿斯麦称霸半导体？
图片来源：nrc.nl by Dieuwertje Bravenboer 地时间6月11日晚间，总部位于荷兰的光刻机巨头阿斯麦（ASML）在社交平台上发文，悼念阿斯麦创始人之一维姆?特罗斯特（WimTroost）
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光刻机巨头ASML创始人逝世：享年98岁
快科技6月12日消息，光刻机巨头ASML公司11日发文，悼念ASML创始人之一维姆·特罗斯（Wim Troost）离世。 据报道，维姆·特罗斯于6月8日逝世，享年98岁。 ASML公司表示：“Wim Troost去世了
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美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机
快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公开表示，美国严厉的芯片管控规定，只会倒逼中国厂商进步更快。 ASML CEO表示，多年来，公司都不用担心设备的去向会受到政治限制，但突然之间，这却变成了全世界最重要的话题之一
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3.8亿美元/台！台积电今年将拿到最新款光刻机：曾表态华为追不上我们
快科技6月6日消息，据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。 报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统
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【洞察】离子束光刻胶（IBL光刻胶）主要用于离子束光刻技术中 我国市场空间有望扩展
未来随着离子束光刻技术不断进步，离子束光刻胶行业发展态势将持续向好。 离子束光刻胶又称IBL光刻胶，指专用于离子束光刻工艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性好、分辨率高、耐辐射、热稳定性好等优势，在纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景
离子束光刻胶 2024-06-06 -
阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用：最早2025年大量生产High NA EUV
快科技6月4日消息，据媒体报道，比利时微电子研究中心（IMEC）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab）
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光刻胶的主要技术参数
1）分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（CD，Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 2）对比度（Contrast）
光刻胶 2024-06-04 -
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台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门：可以远程自毁！
据外媒报道，台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机，暗藏了一个致命的后门，可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在，意在何时使用，无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在，以及具体是如何工作的，ASML、台积电也均未公开回应
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