当前位置:
OFweek 电子工程网
> 正文
纳米终结 半导体10年内进入埃米时代:靠ASML新EUV光刻机了
2021-12-06 13:34
快科技
关注
当前,量产的晶体管已经进入4nm尺度,3nm研发也已经冻结进入试产。
在11月于日本举办的线上ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布了未来十年的技术蓝图。
据悉,2025年后,晶体管微缩化进入埃米尺度(?,angstrom,1埃 = 0.1纳米),时间节点的规划是,2025年A14(14?=1.4纳米)、2027年为A10(10?=1nm)、2029年为A7(7?=0.7纳米)。
微观晶体管结构层面,imec试图在14?节点使用Forksheet结构(p型和n型纳米片晶体管成对排列,类似于用餐的叉子),10?节点试图采用CEFT结构,1纳米(10?)以下计划采用原子形状的沟道,依赖Mo(钼)、W(钨)、X为硫、Se硒、Te(碲)等2D材料和High NA(高数值孔径)EUV光刻机来实现。
说到High NA EUV光刻机(0.55NA),一号原型机(EXE:5000)将在2023年由ASML提供给imec的联合实验室,2026年量产,从而服务1nm及更先进的节点。
作者:万南来源:快科技
声明:
本文系OFweek根据授权转载自其它媒体或授权刊载,目的在于信息传递,并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责,如有新闻稿件和图片作品的内容、版权以及其它问题的,请联系我们。
图片新闻
最新活动更多
-
11月8日立即预约>> 筑梦启光 砺行致远 | 新天激光数字化产研基地奠基仪式
-
即日-11.13立即报名>>> 【在线会议】多物理场仿真助跑新能源汽车
-
11月28日立即报名>>> 2024工程师系列—工业电子技术在线会议
-
11月29日立即预约>> 【上海线下】设计,易如反掌—Creo 11发布巡展
-
11月30日立即试用>> 【有奖试用】爱德克IDEC-九大王牌安全产品
-
12月19日立即报名>> 【线下会议】OFweek 2024(第九届)物联网产业大会
发表评论
请输入评论内容...
请输入评论/评论长度6~500个字
暂无评论
暂无评论