纳米
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“芯片荒”打不倒中国半导体，“28纳米”俱乐部又添新员
它是国产半导体崛起的希望， 也是挑战的开始 撰文：李佳蔓； 排版：知言 如需转载，请后台联系授权 这两天，大洋彼岸传来半导体政策进一步收紧的风声。但今非昔比，在中国半导体行业痛定思痛的一番努力后，“人为刀俎我为鱼肉”的剧本即将被终结
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摩尔定律再进化，2纳米之后芯片如何继续突破物理极限
提到集成电路行业，那么永远绕不过一个名词，就是摩尔定律。但摩尔定律只是经验之谈，本质是预测，并非什么物理层面的约束。 十年前，当14纳米工艺首次亮相时，整个半导体行业似乎正处于一个转折点
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三星继续紧咬台积电，德州泰勒厂制程提升至2纳米
（本篇文篇章共725字，阅读时间约1分钟） 韩国媒体Etnews报道称，三星电子正考虑将其美国德州泰勒市晶圆代工厂的芯片制程，从原计划的4纳米改为2纳米，以在竞争激烈的半导体市场中与台积电和英特尔抗衡
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胜科纳米IPO：巨额分红清空3年利润，借钱上市还计划减持还债
胜科纳米（苏州）股份有限公司（以下简称：胜科纳米）主要业务是服务包括失效分析、材料分析与可靠性分析，是行业内知名的半导体第三方检测分析实验室，而上交所科创板自2023年5月18日受理至今，胜科纳米正式冲刺A股IPO已满一年，但前景却是堪忧
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苹果加速技术演进，预计2025年量产2纳米制程芯片
（本篇文篇章共655字，阅读时间约1分钟） 台积电计划于2025年量产2纳米制程的芯片，而苹果已经积极开展基于这一先进技术的芯片研发。 苹果目前使用的Mac和iPhone芯片采用台积电的3纳米制程，被认为是迄今为止最强大的芯片之一
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英特尔加速推进1.4纳米制程，展望2030年全球第二大代工工厂
（本篇文篇章共735字，阅读时间约1分钟） 近期，英特尔在美国圣何塞举行的Intel Foundry Direct Connect大会上宣布了一系列重要战略，将推动半导体领域的创新和发展
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Dolphin Design宣布首款支持12纳米 FinFet技术的硅片成功流片
这款测试芯片是业界首款采用12纳米FinFet（FF）技术为音频IP提供完整解决方案的产品。该芯片完美结合了高性能、低功耗和优化的占板面积，为电池供电应用提供卓越的音质与功能。这款专用测试芯片通过加快
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未来芯片巅峰！ASML露面的High NA EUV光刻机，为2纳米技术揭开神秘面纱
（本篇文篇章共715字，阅读时间约1分钟） 近日荷兰光刻机巨头ASML首次向媒体展示了最新一代的High NA EUV光刻机，这一机器被视为全球最先进的光刻技术，能够制造2纳米以下的芯片
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联发科和高通今年都将采用3纳米工艺，苹果或真的不再领先
据悉联发科和高通今年的高端芯片都将采用台积电的3纳米工艺，这意味着手机芯片行业全面进入3纳米时代，对于苹果来说，唯一的独占优势也将失去，如果苹果不加快创新可能最后的优势也失去了。 一直以来，苹果的A系处理器都遥遥领先，凭借的就是先进的工艺和自主核心架构研发
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尊湃泄密，2纳米光刻机交付，M国为了重掌芯片话语权费尽心思
近期ASML计划向美国芯片企业Intel交付2纳米光刻机，凸显出美国为了增强自己芯片产业的竞争力已是竭尽全力，再加上近期尊湃通信的泄密案，这不免让人怀疑美国为了确保继续掌控芯片话语权无所不用其极！
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材料和化学品成为半导体制造的决定性因素，推动2纳米制程迎来新时代
（本篇文篇章共742字，阅读时间约1分钟） 随着全球芯片竞赛进入新的阶段，材料和化学品成为半导体制造的决定性因素。在最新的报道中，产业供应链高阶主管指出，台积电和英特尔等业者在推动制程技术达到极限的同时，新材料和更先进的化学品正发挥着越来越重要的作用
2纳米 2023-12-28 -
麒麟9000S、麒麟9000SL、麒麟8000的性能，是几纳米水平？
之前华为Mate60系列，带来了一款全新自研的芯片麒麟9000S，让全球都沸腾了，因为这是华为麒麟三年后的新突破。 大家预测在麒麟9000S之后，一定会有更多的麒麟芯片回归，覆盖高、中档市场，毕竟华为不可能只发布旗舰手机，还会有中档手机
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重大突破，国产芯片公布3纳米关键技术，台积电也未能实现
据媒体报道指，在美国第69届IEEE国际会议上，国产芯片企业发布了一项GAA（环绕栅极）技术，该项技术为3纳米的关键技术，显示出国产芯片并未因为芯片设备的限制而停止研发先进工艺。 GAA技术对于
国产芯片 2023-12-18 -
日本宣布全新光刻机！精度小于2.1纳米、价格便宜30％
尼康宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度都会有进一步提升。 据悉，尼康这款曝光机采用增强型iAS设计，可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正，重叠精度(MMO)更高，号称不超过2.1纳米
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5nm、7nm弯道超车别想！佳能纳米压印“光刻机”无法出口中国 美国封杀
快科技11月9日消息，据外媒报道称，佳能CEO Fujio Mitarai透露，公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，但不会卖给中国厂商。 由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，引起了中国厂商的兴趣，但可能无法实现
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2纳米无需EUV光刻机，ASML或面临灭顶之灾，难怪加紧对中国出货了
ASML曾表示全球5纳米以下的工艺必需它的EUV光刻机，谁也无法替代它的地位，然而如今却有厂商表示可以绕开EUV光刻机生产先进工艺，吓坏了ASML。 在光刻机行业，除了ASML之
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台积电认清了现实，3纳米失败了，加快改良3纳米工艺
日前台积电董事长刘德音表示将在明年初量产下一代3纳米工艺，此举或许在于第一代3纳米工艺表现太差强人意，试图通过推出改良的3纳米工艺挽回客户的信心。台积电在去年底突然宣布量产3纳米工艺，还非常罕有地为3
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台积电3纳米受挫，跟随中国芯开辟新赛道，弯道超车能成功么？
日前媒体爆料指台积电在芯片技术方面早已布局硅光芯片，而它研发这项技术已有数年之久，它的硅光芯片工艺已达到7纳米，预计明年就能投入量产，这是在中国芯片研发硅光芯片之后，又一个重大消息 台积电研发硅
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纳米压印：一个“备胎”走向“台前”的故事
佳能在10月13日宣布，正式推出纳米压印半导体制造设备。对于2004年就开始探索纳米压印技术的佳能来说，新设备的推出无疑是向前迈出了一大步。佳能推出的这个设备型号是FPA-1200NZ2C，目前可以实现最小线宽14nm的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5纳米节点
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佳能猪突猛进，纳米压印取得重要进展
日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移。 佳能据介绍，佳能的纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技术可实现最小线宽14nm的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点
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【深度】纳米镀膜技术应用领域广泛 我国行业集中度较高
PECVD纳米镀膜技术具有沉积速率快、可应用于各种复杂形状基材、沉积温度低、操作灵活等优势，在不耐高温电子产品中拥有广阔应用前景。 纳米镀膜是一种表面处理技术，指利用纳米技术将一层薄膜材料沉积到另一种材料表面上以改善材料性能的技术
纳米镀膜技术 2023-08-08 -
台积电：为全球IC设计公司生产制程从1微米到3纳米的12000种产品
（本篇文章共602字，阅读时间约1分半钟） 近日，台积电（中国）有限公司总经理罗镇球现身一行业活动并发表演讲。他透露，经过三十六年的发展，台积电已形成了强大的产业生态，服务全球超过500家公司，提供超过300种工艺，为全球IC设计公司生产制程从1微米到3纳米的12000种产品
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【洞察】纳米压印技术（NIL）在芯片制造领域应用前景较好 我国市场参与者众多
在芯片制造领域，与传统光刻技术相比，纳米压印技术具有生产效率高、制造成本低等优势，可用于制造DRAM、3D NAND等各种储存芯片。 纳米压印技术（NIL）指将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术，属于新型微纳加工技术
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告别自嗨，中芯下架14纳米而深耕成熟工艺，更符合当前的现实
这几年国产芯片屡屡说先进工艺研发难度不大，14纳米已量产，7纳米也不在话下，不过随着中芯官网暂时下架14纳米，这或许让国产芯片行业告别自嗨，明白我们的现实，先深耕28纳米等成熟工艺，满足当下的要求。
中芯国际 2023-06-25 -
国产90nm光刻机，到底能生产多少纳米的芯片？最高55nm
众所周知，在芯片的制造过程中，光刻机是价值最高的半导体设备，同时光刻工艺是耗时最多，工序最复杂的工艺。 所以在全球半导体设备市场规模中，光刻机也是市场最大的设备之一，约占所有半导体设备的20%左右，是唯二超过20%比例的设备
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中国4纳米芯片正式商用，自研芯片有了新希望，美国挡不住了
日前中国超级计算机研究中心（NSCC）表示已实现了中国首个4纳米芯片的封装，并已将芯片应用于计算机集群中，这意味着中国在芯片封装技术方面再进一步，将为中国解决芯片性能开辟一条新道路。 先进封装技术得到重视，在于当下先进工艺的发展已逐渐达到瓶颈
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台积电不要补贴，美国4纳米工厂发生火灾，外媒：这真是意外？
日前美国媒体报道指台积电位于美国亚利桑那州的4纳米工厂发生火灾，不过火灾造成的损失不大，消防及时到场扑灭了火灾，恰在台积电计划放弃美芯补贴并将重心放回亚洲市场之际，这就不免让人联想。
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中国量产12纳米工艺，第四代芯片材料也取得了突破，拜登心都碎了
美国一直都在试图遏制中国芯片的发展，近期美国总统拜登拉拢了日本和荷兰限制先进芯片设备供应，以为如此做就能阻挡中国芯片的发展，然而中国芯片却在近期公布了好几项技术进展，让美国的图谋落空。
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芯片工艺14纳米实现国产化，7纳米量产也就快了
某国产手机芯片企业表示它已搞定14纳米以上的EDA工具全国产化，纯国产芯片变成现实，如此也就说明国产的28纳米光刻机已投入生产线，28纳米光刻机对于国产7纳米具有独特的意义，实现7纳米的国产化有了希望
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14纳米纯国产，7纳米工艺量产也快了，外媒：挡不住中国芯片了
日前国内一家科技企业表示它已实现14纳米工艺的纯国产，这意味着国内的芯片制造产业链已达到14纳米，光刻机问题估计已得到解决，如此对于中国的芯片制造这个大难题或许也已取得了重大突破。 该科
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不仅7纳米过剩，14纳米也过剩了，中国布局成熟工艺反而成赢家
在去年之前，全球芯片行业的热点是三星和台积电谁能更早量产更先进的工艺，然而到了去年Q4以来7纳米工艺开始出现过剩，5纳米也出现需求不足，到如今连14纳米都开始过剩了。早前消息指三星率先降低14纳米工艺
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国产14纳米芯片的推出，或代表着7纳米国产化都有了希望
国产28纳米光刻机一直备受关注，因为这代表着浸润式先进光刻机能否量产的问题，近日有国产手机即将发布的新款手机了14纳米芯片，或许就代表着浸润式光刻机真正量产并已投入使用。 一、国产14纳米芯片的
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