国产芯片受制于先进工艺的限制，一直是国产芯片之痛，不过在如此情况下国产芯片并没有止步不前，而是从多方面打破芯片工艺的限制，这两年所取得的突破让西方吃惊，它们惊呼无法相信中国芯片能做到如此地步。

在芯片产业链方面，中国正加速完善国产芯片制造产业链，集中力量突破芯片制造的最后环节－－光刻机，预计光刻机技术最快年内将达到14nm，如此全国产化的14nm工艺将变成现实，中国也成为全球唯一一个拥有芯片制造全产业链的国家，而荷兰的ASML生产光刻机却是需要在全球多国采购元件。

基于现有的芯片制造工艺，中国芯片企业研发了芯片堆叠技术并已获得了专利，如此可以通过堆叠技术将14nm工艺生产的芯片性能提升至接近7nm，这项技术预计明年就能实现商用，这将解决国内芯片工艺受限的问题。

中国还在积极推动芯片设计技术的变革，基于开放的RISC－V架构研发性能更强大的国产芯片，目前国产芯片基于RISC－V架构的芯片已基本占领物联网市场，正推动RISC－V架构进入PC处理器和服务器芯片市场，将彻底替代ARM架构，也正是在中国芯片的力推下，RISC－V架构已与X86和ARM形成三足鼎立之势。

在GPU芯片方面，国产芯片再次证明了通过芯片核心架构的设计，即使采用落后的工艺，也能达到世界领先水平，近期墨芯推出的国产GPU芯片以国产的14nm工艺生产，在部分性能指标方面就已达到NVIDIA的水平。

通过芯片核心架构的升级提升性能其实并非虚妄，而是有事实例证，这方面苹果做得最好。苹果向来是获取ARM的指令集授权，自行设计核心架构，由此它的A系处理器向来领先安卓处理器两代，近期的A16处理器在沿用了5nm工艺的改良工艺N4工艺，通过核心架构的升级就大幅提升了性能20％。

苹果的M系处理器更是进一步凸显出核心架构设计的重要性，一直以来ARM架构都被指功耗低伴随着性能低的弊病，由此ARM处理器一直无法威胁Intel，2020年苹果开发的M系处理器一举将性能提升至与当时的Intel的11代酷睿i7处理器相当，打破了ARM架构的性能桎梏，同时功耗仍然远低于Intel的X86处理器。

中国芯片力推的RISC－V当初的设计理念就是以成熟工艺生产性能更强的处理器的，如此来进一步降低芯片的生产成本，中国的阿里平头哥在这方面已开始有所突破，它推出的RISC－V架构的PC处理器性能已达到较高水平，并已与合作伙伴生产出纯国产的PC，证明了中国芯片正积极通过核心架构设计技术的升级来提升性能，摆脱芯片制造工艺对中国芯片的限制。

GPU芯片则是又一个证明，GPU芯片并没形成全球通行的架构以及生态，因此国产GPU芯片得以更快突破，近几年涌现的一批国产GPU芯片企业就已开发出性能强大的GPU芯片，这些GPU芯片都可以国产的14nm工艺生产，获得较高的性能，可以预期随着国产芯片在GPU芯片设计技术方面的进展，以国产14nm工艺生产的GPU芯片追上NVIDIA是完全有可能的。

可以说在美国的压力下，中国芯片已进入喷发的阶段，积极利用现有的基础开发更先进的芯片技术，或许不久的将来，国产CPU和GPU都将开创一条新道路，摆脱此前全球芯片行业过于依赖芯片制造工艺提升芯片性能的路径，推动全球芯片技术的变革。

       原文标题 : 中国芯片奋力前行，各出奇谋打破芯片工艺限制，西方惊呼不可能