ASML预言成真,中国芯使用中国产光刻机,不从ASML买了?
前段时间,ASML的CEO 彼得?温宁克(Peter Wennink )接受采访时表示:“美国主导的针对中国的半导体出口管制措施,最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术”。
他还说:“如果无法得到这些机器,他们就会自己研发。这需要时间,但最终他们会实现目标”。
ASML当然想和中国做生意,想把自己的光刻机卖给中国,他是生意人,以追求利益为目的,美国的事关他什么事?
所以他有了这个预言,其实意思就是美国要制裁,只怕最后会制裁个寂寞,反而会促进中国奋发图强,最终实现了独立自主,反而ASML会成为受害者,卖不出光刻机了。
当时很多网友看到这则报道后表示,借彼得?温宁克吉言,希望我们能够早日研发出自己的光刻机出来,然后中国芯用中国产光刻机,不再从ASML买,让美国傻眼,意愿落后。
果然,近日有了新消息,中国芯开始使用中国产光刻机,不再从ASML买了,ASML CEO的预言很快就应验了。
上海微电子以每台1800万元的价格,卖了2台给昆山同兴达,用于芯片封测使用,而同兴达搞了个隆重的仪式,庆祝首台光刻机入厂。
而这也是上海微电子生产的首台2.5D/3D先进封装光刻机顺利交付并正式投入使用。按照媒体的说法,这台2.5D/3D先进封装光刻机,是所有竞品中的“佼佼者”。
上海微电子更是称其——“代表了行业同类产品的最高水平”,可见,这可不是落后产品,是全球领先的产品,很明显,这是自研光刻机领域的一大进步。
当然,如果关注光刻机的人,会看到我特意提到,这台光刻机是一台封装光刻机,属于后道光刻机的一种,用于芯片封测。
而我们经常提的DUV、EUV光刻机,是属于前道光刻机,是用于芯片制造的,这两种光刻机有一点不一样,前道光刻机更难,而后道光刻机相对容易。
美国对我们进行打压的,其实主要也是用于芯片制造的前道光刻机,比如浸润式光刻机,EUV光刻机等,至于后道光刻机,美国并不是那么在意,芯片封装技术,美国不卡我们。
不过,任何技术都是从易到难,要想研发出最高级的产品,得先从低端的做起,把欠下的功课补上来,把基础打牢了才行。
后道光刻机就是属于基础之一,把这一块打牢了,从源头开始努力,未来我们在前道光刻机上才能突破,彻底追上ASML。
现在我们不买ASML的后道光刻机,接着就会不买ASML的前道光刻机,这只是一个开始……
原文标题 : ASML预言成真,中国芯使用中国产光刻机,不从ASML买了?
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