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中国芯换道反击竟成正确选择,美国错失时机后悔莫及

2023-03-09 08:41
柏铭007
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美国这几年为了限制中国芯片的发展可谓处心积虑,然而随着中国芯片行业大举扩张28纳米,中国芯片可望进一步提升芯片自给率,却意外取得了成功,这让美国推出芯片规则限制中国芯片的发展落了空。

中国芯换道反击竟成正确选择,美国错失时机后悔莫及

在过去几年,全球芯片行业最热衷的无疑是不断升级芯片制造工艺,以先进芯片工艺带动技术的发展,然而到了2022年以来,全球芯片行业对先进工艺的热度迅速冷却,台积电的先进工艺产能利用率急跌。

导致全球芯片行业对先进工艺的热情下降,在于全球芯片行业陷入衰退,为了争夺市场,芯片企业普遍降价竞争,如此一来,芯片成本就成为优先考虑,而先进工艺的成本过高反而成为它的弊端。

再有是先进工艺的发展面临瓶颈,台积电的3纳米工艺一再延迟,直到去年底才宣布量产,然而苹果的A16处理器采用3纳米工艺试产后却发现性能提升幅度有限而成本太高,最终A16处理器采用了5纳米工艺的改良工艺4纳米,连苹果如此有钱的企业都承受不了先进工艺的成本,自然其他芯片企业更难承受高成本的先进工艺。

近期消息指苹果、AMDNVIDIA等均削减了先进工艺的订单,导致台积电的先进工艺产能过剩严重,无奈之下台积电已关闭了部分EUV光刻机,以节省电费,可见先进工艺如今的窘境,相比之下,成熟工艺的需求却在增长。

中国芯换道反击竟成正确选择,美国错失时机后悔莫及

据悉中国芯片企业大力布局的28纳米工艺需求较多,因为5G基站、汽车、工业互联网等行业对成熟工艺的需求更高,而且成熟工艺的成本更低、更可靠,可以满足七成的芯片需求,由此28纳米工艺成为当下的热点。

为了确保28纳米工艺产能的扩张,中芯国际早在数年前就已下单订购DUV光刻机,如今这些光刻机都已陆续进驻各个厂房,即使这次美国修改芯片规则,也未对中芯国际采购的DUV光刻机供应造成太大影响。

中芯国际目前正在推进四座12英寸晶圆厂,投资额高达1700亿元,未来这四座晶圆厂投产,将推动中芯国际的产能倍增,为实现2025年中国芯片自给率达到七成的目标打下基础,可以说中国芯片的布局如今倒是顺应了芯片行业的发展趋势。

对比之下,美国芯片如今陷入的窘境,美国多家芯片企业业绩大幅衰退、市值损失1.9万亿美元,不断减少先进工艺制程订单,可谓鲜明对比,可以说中国芯片布局成熟工艺却意外地抓住了机会,成为中国芯片的意外之喜。

中国芯换道反击竟成正确选择,美国错失时机后悔莫及

美国以为依靠先进芯片技术可以继续坐享厚利,却没想到如今美国芯片却在先进工艺芯片方面陷入窘境,而在成熟工艺芯片方面阻止不了中国芯片的发展,甚至还被中国的成熟工艺芯片抢占美国芯片的市场,这让它后悔莫及。

       原文标题 : 中国芯换道反击竟成正确选择,美国错失时机后悔莫及

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