如果中国研发出28nm光刻机，美国的芯片禁令，将被瓦解
近日，有媒体报道称，国产28nm光刻机即将制造出来，并且是浸润式光刻机。
一时之间，网友们沸腾了，因为这个消息实在太震撼了，要知道目前光刻机已经是国产芯片产业链中，最短的短板了。
而美国针对中国的禁令，也是以光刻机为主，卡住14nm及以下的光刻机及所有先进设备。
而浸润式光刻机，虽然也属于DUV光刻机的一种，经多重曝光之后，却最高可以生产7nm的芯片，你说让不让人激动？让不让沸腾？
几年前，中芯国际的梁孟松就表示，7nm芯片研发已经准备好，只等光刻机，如今假如有了28nm的光刻机，这一切不是迎刃而解了么？
可以说，有了这台28nm的光刻机，那么美国的芯片禁令，都会因此而瓦解，因为再针对14nm工艺，可能都没什么意义了。
当然，这则消息的真假未知，可能是真的，也可能是假的。
为何这么说？我们知道光刻机有三大件，分别是光源系统、物镜系统、工作台。
DUV光刻机的光源系统是一样的，都是采用193nm的紫外线，这一块，中国已经掌握了技术，因为90nm的光刻机，与28nm的光刻机，光源系统区别不是特别大。
工作台这一块，其实差别也不大，目前国内的华卓精科有双工作台技术，也被国产光刻机使用。
物镜系统就差别大了，物镜系统是指收集光线，使其具有可控的方向性，同时将这些光线，按照要求，投射到工作台上。
浸润式光刻机，要在晶圆上方加一层水，然后193nm的光线，经过水的折射后，变成等效134nm波长，所以物镜系统与干式光刻机不一样。
浸润式光刻机的物镜系统非常复杂，甚至可以说是光刻机中最昂贵最复杂的部件之一，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿。
而目前能够制造浸润式光刻机的厂商，就两家，一家是ASML，一家是尼康。目前能够制造浸润式光刻机物镜系统的，全球仅一家，那就是蔡司。
而ASML和尼康这两家的浸润式物镜系统来源，均是蔡司。按照媒体的说法，浸润式光刻机不仅要控制物镜波像差，更要全面控制物镜系统的偏振像差，全球仅有蔡司有这技术。
而蔡司与ASML关于物镜系统是合作研发，双方有协议的，蔡司不能将这些技术，提供给ASML不允许的任何第三方厂商，而尼康获得这个技术是ASML许可的。
所以国产光刻机厂商，能不能掌握这个浸润式光刻机的镜镜系统，很多网友是持怀疑态度的，觉得可能消息是假。
但现在已经是8月份了，离年底也就4个多月时间，那么就让我们拭目以待吧，如果真的28nm光刻机制造出来，芯片禁令就不用怕了。
原文标题 : 如果中国研发出28nm光刻机，美国的芯片禁令，将被瓦解
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