备忘录：国家知识产权局集成电路布图设计专有权公告（11月15日）

2013-11-15 10:04

　　附录：如何取得集成电路布图设计专有权？

　　我国的集成电路布图设计保护相对较晚。2001年3月28日国务院通过了《集成电路布图设计保护条例》，于2001年10月1日生效。根据《集成电路布图设计保护条例》，特制定《集成电路布图设计保护条例实施细则》，自2001年10月1日起施行。根据《中华人民共和国集成电路科设计保护条例》，制定《集成电路布图设计行政执法办法》，自2001年11月28日起实行。

　　专有权的取得

　　布图设计专有权，是指通过申请注册后，依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。

　　（一）集成电路布图设计权的主体

　　按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，依照本条例享有布图设计权。

　　（二）客体条件

　　集成电路布图设计必须具备独创性。

　　布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的，设计必须是突破常规的贵的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出独创性时，都可以获得法律保护。

　　（三）方式和程序

　　目前，世界各国主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得，大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。

　　取得的程序：

　　（1）申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；

　　（2）初审；

　　（3）登记并公告；

　　（4）对驳回申请的复审；

　　（5）登记的撤销。

　　（四）集成电路布图设计申请阶段需提交的材料：