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光刻胶:研究框架(200页)

光刻胶是IC制造的核心耗材,其质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素,属于高技术壁垒材料,需要长期的技术积累,约占IC制造材料总成本的5%。

光刻胶市场基本被国外巨头垄断。日本合成橡胶、东京应化、信越化学等五大光刻胶厂商占据全球约87%的市场份额,尤其是在高端的半导体光刻胶市场中国更是仅占极少的份额,国产化率不足5%。

受福岛地震影响,日本信越化学KrF光刻胶产能不足导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张,部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现了断供,多家晶圆厂在加速验证导入本土KrF光刻胶。当前国产替代已成为业内共识,我们认为伴随KrF光刻胶、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后,国产光刻胶将真正进入国产替代的高峰期。

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