俄罗斯将搞定7nm,佳能搞定5nm光刻机,给我们什么启示?
近日,芯片光刻机又有了大突破,不过都和中国无关,一是俄罗斯报道称只花了37万元,就生产出了DUV级别的光刻机,然后还表示在明年要搞定7nm的样机。
另一家是日本光刻机巨头佳能表示,生产5nm芯片的光刻机正式销售,不过这种光刻机,不是大家熟悉的EUV光刻机,而是采用NIL纳米压印技术。
这两个消息,都是国外的突破,都与中国光刻机无关,但这两件事情,还是给我们非常大的启示,我觉得国产光刻机,真的需要重视。
俄罗斯之前是不能生产光刻机的,哪怕最简单的i线、G线光刻机,俄罗斯都是进口的,这次居然直接生产出了DUV级别的,还只花了37万元,你说这震撼不震撼?
同时俄罗斯还提出了X射线方案,表示明年要生产出7nm光刻机的样机,这可是相当大的一步了。
而佳能之前的的技术只有ArF光刻机,与上海微电子是同一水平的,现在突然就进入了5nm,还采用了NIL这种全新的技术,绕过了EUV方案。
这说明,光刻机并没有想象中的难,只要努力,一定能够突破的,要知道中国在光刻机技术上有很多积累,从其研发历史来看,其实最早与美国相差并不大的,有很多经验,难道还比不上俄罗斯?还比不上佳能?
另外,俄罗斯换道X射线方案,佳能换道 NIL技术方案,都绕开了EUV技术,为什么会绕开,这是因为ASML已经将EUV方案的核心供应链,全撑在自己手中了,其它厂商,要想在EUV上走通,非常难,需要重塑整个供应链。
而俄罗斯的X射线方案,佳能的NIL方案,都绕开了EUV,就是避免在ASML掌握的地盘上重新搞一堆供应链出来,而这两种方案,似乎都有了好的结果,所以我们是继续在ASML垄断的路上死磕EUV,还是换道超车呢?
原文标题 : 俄罗斯将搞定7nm,佳能搞定5nm光刻机,给我们什么启示?
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