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激光光刻


  • 美国,正在疯狂建芯片厂,疯狂购买ASML光刻机

    2023年,因为众所周知的原因,中国在疯狂的建设芯片厂,所以也疯狂的购买ASML的光刻机。 按照ASML的数据,2023年,中国大陆从ASML购买了约600亿元的光刻机,排名全球第一。 而之前一年,这个金额大约只有200亿元左右,可见,2023年是以往年份的三倍左右了

  • ASML追随美国,不卖光刻机给中国损失惨重,不再公开数据

    全球最大的光刻机企业ASML日前表示不再公开对中国销售光刻机的数据,此举可能是它在反思此前公布数据,导致美国追溯相关的数据,导致企业的商业机密可能因此泄露,这对于它的经营不利。 大约从2019年开始

  • EUV光刻,新的对手

    最近,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,这种激光器比现在行业内的标准CO2激光器将EUV光源提高约10倍。 这一进步,可能为新一代&ld

  • 从规模拐点到盈利拐点,激光雷达2025年有望爆发

    前言:如今,留在“牌桌”上的都是具备量产能力的激光雷达厂商,在漫长的资本寒冬洗牌之后,市场格局日益趋于稳定。 作者 | 方文三图片来源 | &n

  • 俄罗斯芯片自研突破,死磕光刻机

    前言: 近日媒体报道,俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断,为全球半导体产业带来新的变革。 作者 | 方文三 图片来源 | &n

  • 镓、锗、光刻胶、超纯石英等,那些影响全球半导体的关键材料

    去年以来,中国对镓、锗、锑、超硬材料、石墨等两用物项实行了出口管制措施。 12月3日,商务部发布“关于加强相关两用物项对美国出口管制的公告”:禁止两用物项对美国军事用户或

  • 传光刻机巨头ASML芯片机密再被“偷盗”!

    据荷兰媒体《NOS》报道,一名43岁的前ASML员工因涉嫌窃取ASML和芯片技术公司Mapper Lithography的微芯片手册等文件被指控,目前荷兰庇护和移民部已对其实施了为期20年的入境禁令。

    光刻机ASML芯片 2024-12-09
  • 国产EUV光刻机,万众瞩目,成美国芯片禁令的破局点

    虽然有什么NIL纳米压印技术、又有什么BLE电子束技术,但是,目前在芯片的大规模制造中,全部是采用光刻技术。 而在芯片制造的光刻技术中,最重要的就是光刻机,没有替代品。 全球光刻机市场,主要掌握在

  • 美国阻止中国大陆诞生台积电、英伟达,国产EUV光刻机成关键了

    如果是关注芯片产业的人,应该都清楚,最近这5年以来,美国对中国半导体的打压是越来越厉害。 之前各项禁令的目标,明确是要锁死我们的逻辑芯片在14nm,DRAM在18nm,NAND闪存在128层,然后限制任何能够制造这些先进芯片的设备,出口到中国来

  • 三星大幅削减3D NAND生产中的光刻胶使用量

    本文由半导体产业纵横(ID:ICVIEWS)综合 三星降本,供应商发愁。 三星电子在其最新的 3D NAND 闪存光刻工艺中减少了厚光刻胶(PR)的使用,让成本大幅节约。然而,这一举措可能会影响其韩国供应商东进世美肯

  • EUV光刻机这么重要,为什么我们不能拆了,1:1山寨出来?

    在当前的芯片制造工艺(光刻工艺)下,EUV光刻机是进入7nm芯片工艺以来,必不可少的机器,没有替代品。 但EUV光刻机,全球仅有一家企业能够制造,它就是ASML,没有其它的了。 所以,制造出EUV

    EUV光刻机ASML 2024-12-02
  • EUV光刻机巨头风云争夺战

    前言: 各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争,争相导入或宣布市场进展,预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。 目前,英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动

  • ASML画饼,将芯片工艺推至0.2nm了,好自己卖光刻机

    在目前的芯片产业链里,ASML的光刻机,应该是最强有力的纽带了。 因为任何芯片工艺的进步,都离不开光刻机,且全球只有ASML这么一家能够制造EUV光刻机的厂商,所以说ASML就是全球芯片产业的“皇上皇”

  • 部署High-NA EUV光刻机,台积电2nm要来了

    本文由半导体产业纵横(ID:ICVIEWS)综合 采用高NA EUV光刻机对于台积电发展2nm以下工艺至关重要。 据悉,台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球先进的芯片制造设备——高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机

  • ASML的光刻机,难以成为美国控制全球芯片的工具了

    不管大家承认不承认,虽然ASML是荷兰的,但其实它更像是美国的,因为它听美国的话,美国让它不卖给谁,它不敢不听。所以ASML的EUV光刻机,不卖给中国、俄罗斯等国家,后来连浸润式DUV光刻机,也进行了限制,不能随便卖,需要许可证

  • 小米的3nm和燕东微用的光刻机

    文:诗与星空 ID:SingingUnderStars 最近一则消息沸沸扬扬,北京电视台在一次例行的新闻播报中,称小米自研了3nm的手机芯片。            开香槟的和冷嘲热讽的皆有之,后者居多

  • 业绩暴雷!ASML股价继续大跌:想卖先进光刻机给中国厂商 但不被允许

    快科技10月17日消息,由于业绩暴雷,这导致光刻机龙头ASML股价暴跌,而两天时间股价已跌超20%。 据官方公布的数据看,阿斯麦(ASML)今年第三季度接到的订单大幅减少,总订单金额约为26亿欧元,不到上一季度近56亿欧元的一半

    ASML光刻机 2024-10-17
  • 全球光刻机巨头业绩“爆雷”,阿斯麦单日股价跌幅创26年之最

    日前,全球光刻机巨头阿斯麦(ASML)发布的财报,由于财报数据远低于预期,阿斯麦的股价在短时间内出现了大幅波动,创下了近年来的单日最大跌幅。 阿斯麦发布的财报显示,公司在2024年第三季度的订单额仅为26.3亿欧元,环比下降53%,远低于市场预期的53.9亿欧元

    光刻机阿斯麦 2024-10-16
  • 国产光刻机公开后,ASML慌了,请求美国放开限制,自由贸易

    目前几乎所有的芯片制造技术,均是基于光刻工艺来的。 而光刻工艺中,最重要的设备,就是光刻机。目前全球仅4家厂商,拥有前道光刻机生产能力,分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康,中国的上海微电子。

  • 美国封锁失败,努力6年后,国产光刻机从90nm,跨进65nm

    众所周知,全球前道光刻机(非后道光刻机)的主要玩家就4家,分别是荷兰的ASML,日本的尼康、佳能,中国的上海微电子。 但如果从市场份额来看,ASML占了85%以上的份额,然后尼康、佳能又占了15%左右,上海微电子的份额几乎为零

  • 聊聊套刻精度≤8nm的国产光刻机,究竟怎么回事

    近日,在工业和信息化部发布的资料中,大家看到两台国产氟化氩光刻机。 其中一台写着晶圆直径300mm,波长248nm,分辨率≤110nm,套刻精度是≤25nm。 而另一台写着晶圆直径300mm,波长193nm,分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm

  • 被美国要求不能帮中国厂商维修、更不能卖光刻机:ASML称要反击了

    快科技9月5日消息,据国内媒体报道称,ASML CEO公开回应了对华出口限制,他们会有更多应对措施(反击措施)。 荷兰计算机芯片设备供应商ASML首席执行官Christophe Fouquet当地时

    光刻机ASML 2024-09-05
  • 以激光作为光源进行测距的接近传感芯片WH4530A

    激光测距(laser distance measuring)是以激光器作为光源进行测距。激光测距由于激光的单色性好、方向性强等特点,加上电子线路半导体化集成化,与光电测距仪相比,不仅可以日夜作业、而且能提高测距精度

  • 光刻工艺之涂胶问题

    “ 光刻作为半导体中的关键工艺,其中包括3大步骤的工艺:涂胶、曝光、显影。三个步骤有一个异常,整个光刻工艺都需要返工处理,因此现场异常的处理显得尤为关键”

    光刻工艺晶圆 2024-06-19
  • 可量产0.2nm工艺!ASML公布超级EUV光刻机:但死胡同也不远了

    ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机,同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机,预计可将半导体工艺推进到0.2nm左右,也就是2埃米。 ASML

    ASMLEUV光刻机 2024-06-17
  • 光刻巨人倒下,他如何带领阿斯麦称霸半导体?

    图片来源:nrc.nl by Dieuwertje Bravenboer 地时间6月11日晚间,总部位于荷兰的光刻机巨头阿斯麦(ASML)在社交平台上发文,悼念阿斯麦创始人之一维姆?特罗斯特(WimTroost)

    阿斯麦半导体 2024-06-17
  • ASML摊牌:1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时,才要换EUV光刻机

    目前ASML对外大规模发售的光刻机叫做标准光刻机,也可称之为LOW NA EUV,意思就是其数值孔径是较低值的,所以称之为LOW,NA=0.33。 这种光刻机主要用于7nm及以下芯片的制造,至于往下能够支持到多少纳米?ASML没有说

  • ASML要慌:EUV光刻机新光源出现,成本降50%,功耗降80%

    目前全球仅有ASML一家能够生产EUV光刻机,而制造7nm以下芯片,又必须使用到EUV光刻机,所以ASML相当于卡住了全球先进晶圆厂的脖子。 于是ASML推出的1.5亿欧元的标准EUV光刻机,台积电等厂商不得不买,后来再推出3.5亿欧元的High NA EUV光刻机,intel们继续买

  • 光刻机巨头ASML创始人逝世:享年98岁

    快科技6月12日消息,光刻机巨头ASML公司11日发文,悼念ASML创始人之一维姆·特罗斯(Wim Troost)离世。 据报道,维姆·特罗斯于6月8日逝世,享年98岁。 ASML公司表示:“Wim Troost去世了

    ASMLWimTroost 2024-06-12
  • 美国芯片管控引ASML吐槽:倒逼中国厂商造出更先进光刻机

    快科技6月7日消息,近日,ASML公司CEO公开表示,美国严厉的芯片管控规定,只会倒逼中国厂商进步更快。 ASML CEO表示,多年来,公司都不用担心设备的去向会受到政治限制,但突然之间,这却变成了全世界最重要的话题之一

    ASML光刻机 2024-06-07
  • 3.8亿美元/台!台积电今年将拿到最新款光刻机:曾表态华为追不上我们

    快科技6月6日消息,据外媒报道称,ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机,单台造价达3.8亿美元。 报道中提到,ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师,公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统

    台积电光刻机 2024-06-06
  • 【洞察】离子束光刻胶(IBL光刻胶)主要用于离子束光刻技术中 我国市场空间有望扩展

    未来随着离子束光刻技术不断进步,离子束光刻胶行业发展态势将持续向好。 离子束光刻胶又称IBL光刻胶,指专用于离子束光刻工艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性好、分辨率高、耐辐射、热稳定性好等优势,在纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景

    离子束光刻胶 2024-06-06
  • 阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用:最早2025年大量生产High NA EUV

    快科技6月4日消息,据媒体报道,比利时微电子研究中心(IMEC)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)

    阿斯麦IMEC 2024-06-05
  • 光刻胶的主要技术参数

    1)分辨率(resolution)。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸(CD,Critical Dimension)来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。 2)对比度(Contrast)

    光刻胶 2024-06-04
  • 中国光刻机晚事:研发比ASML早20年,却落后这么久呢?

    如今的光刻机市场,已经是ASML的天下了,ASML一家拿下了全球80%以上的市场,特别是在EUV这种高端市场,ASML拿下100%的份额,其它任何光刻机厂商,都生产不了EUV光刻机。 与之对比的是,

  • ASML走向“末路”?台积电不买新EUV光刻机,太贵了

    自从芯片产业的制造,采用光刻方式之后,光刻机就成为了不可或缺的设备之一。 而当光刻进入浸润式时代后,ASML抱着台积电大腿,豪赌浸润式,彻底崛起,将尼康、佳能等远远的甩在了身后,真正一家独大。 如今在浸润式光刻机领域,ASML份额超过90%,而在EUV光刻机领域,ASML的份额达到100%

  • 台积电买的ASML EUV光刻机被曝暗藏后门:可以远程自毁!

    据外媒报道,台积电从荷兰ASML(阿斯麦)购买的EUV极紫外光刻机,暗藏了一个致命的后门,可以在必要的时候执行远程自毁。 至于这个自毁开关为何存在,意在何时使用,无需赘言。 但目前尚不清楚它到底是否真的存在,以及具体是如何工作的,ASML、台积电也均未公开回应

    台积电ASML 2024-05-23
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