韩国光刻胶

韩国NF_耐福NTP8835-2×30W数字功放IC

NTP8835是韩国NF（耐福）一款高性能全数字音频功率放大器，采用全数字PWM调制技术，集成双通道D类功放与DSP音频处理内核，支持2.0/2.1声道配置，能接收采样频率从8kHz到192kHz的数字串行音频数据，适用于家庭影院、智能音箱、电视音响等场景，具有高保真音质与高效能特性

NTP8835 数字功放芯片音频功放 2025-04-08

韩国GreenChip丨推出智能马桶落座模块，助力高端智能生活

智能马桶落座感应器的工作原理比较简单。当用户接近马桶时，感应器会通过红外线探测到用户的存在，并将信号传输到智能控制系统中。系统便会马上响应，控制座圈自动降下。当用户离开马桶时，感应器会再次检测到用户的离开动作，并将信号传输到智能控制系统中

智能马桶落座模块感应模块着座模块 2025-03-25

3年研发投入5000亿打水漂，韩国芯片巨头，暂停1.4nm芯片

芯片制造，绝对是整个芯片产业里面投入最大的，特别是先进芯片。建设一条7nm的芯片生产线，成本超过50亿美元，建设一条5纳米的芯片生产线，成本可能高达100多亿美元，越先进，成本越高。因为各种半导体设备的投入，厂房的投入，以及各种研发的投入

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2025-03-24

韩国WellangDT3100-LED驱动芯片,白炽灯或荧光灯替代方案

韩国Wellang-DT3100芯片是专为LED照明设计的浮动电流驱动IC，采用SOT-89-3L封装，具备高集成度与灵活性；为替换白炽灯泡和线性荧光灯提供了高效方案，支持多步配置同时，能够调节流过LED灯串的电流，确保LED灯具的稳定发光和高效能耗适用于高功率应用场景

DT3100 LED驱动芯片 2025-03-20

进军光刻市场，中国第一大芯片设备厂商，向ASML起冲锋？

在半导体设备这个领域中，光刻机一直是最大家关注的设备。原因是中国的光刻机技术，确实落后，按照专业人士的说法，如果与全球最顶尖的水平相比，可能落后在15-20年，这个差距不可谓不大。同时，ASM

光刻机 ASML 2025-03-16

光刻机巨头ASML有点慌，2025年，中国市场或少400亿收入

作为全球光刻机一哥，荷兰的ASML其实是很赚钱的，以2024年为例，营收高达282.63亿欧元（当前约2215亿元），创历史纪录，而净利润为75.72亿欧元（当前约594亿元）。毛利率高达51.3%，比绝大多数的半导体企业都要高，几乎只有台积电才能媲美，可见光刻机的利润有多夸张了

ASML 光刻机芯片中芯国际华为 2025-03-10

韩国NF_耐福NTP8928-2×20W数字功放芯片

由工采网代理的NTP8928是一款高性能、高保真全数字音频功率放大器芯片，该芯片集成了数字音频信号处理功能、高性能全数字PWM调制器以及两个高功率全桥MOSFET功率级，其卓越的音质表现、高效的功率输出以及灵活的数字化处理能力，为家庭影院、智能电视、多媒体音箱领域的核心解决方案

韩国NF NTP8928 数字功放芯片 2025-03-07

WD10-3111_韩国Wellang8W高压浮动电流驱动器

由工采网代理的WD10-3111是韩国Wellang推出的8W高压浮动电流驱动器集成电路，能够有效调节LED电流，可配置各种LED驱动拓扑结构，包括串联、并联和混合配置等，同时兼具电压控制电流源和电流

WD10-3111 LED驱动器电流驱动器 2025-02-14

美国，正在疯狂建芯片厂，疯狂购买ASML光刻机

2023年，因为众所周知的原因，中国在疯狂的建设芯片厂，所以也疯狂的购买ASML的光刻机。按照ASML的数据，2023年，中国大陆从ASML购买了约600亿元的光刻机，排名全球第一。而之前一年，这个金额大约只有200亿元左右，可见，2023年是以往年份的三倍左右了

芯片台积电华为 ASML 光刻机 intel 2025-02-04

ASML追随美国，不卖光刻机给中国损失惨重，不再公开数据

全球最大的光刻机企业ASML日前表示不再公开对中国销售光刻机的数据，此举可能是它在反思此前公布数据，导致美国追溯相关的数据，导致企业的商业机密可能因此泄露，这对于它的经营不利。大约从2019年开始

国产芯片光刻机 2025-01-20

EUV光刻，新的对手

最近，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥（BAT）激光器，这种激光器比现在行业内的标准CO2激光器将EUV光源提高约10倍。这一进步，可能为新一代&ld

EUV光刻机国产芯片 2025-01-15

韩国WellangWD10-3111高电压浮动电流驱动芯片

WD10-3111是韩国Wellang推出的一款高电压浮动电流驱动芯片，可精确调节通过LED灯串的电流，确保每个LED都能获得稳定且均匀的电流供应；能适应多种LED驱动拓扑结构，包括但不限于串联、并联以及混合配置，在不同应用场景中具有高度灵活性

韩国Wellang LED驱动芯片 2025-01-03

三星的尴尬：韩国不相信它了，宁愿花1000亿，另造一家“韩积电”

一直以来，三星是仅次于台积电的全球第二大芯片代工企业。在技术上，三星这些年似乎是与台积电不相上下，大家一起进入10nm，一起进入7nm、5nm，甚至在3nm上，三星还领先了半年，采用了更先进的GAAFET晶体管技术

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-12-31

韩国半导体产业集群战略

芝能智芯出品韩国半导体行业正在加速构建全球领先的产业集群，龙仁半导体国家工业园区的建设是其重要一步。这一产业集群将涵盖六座晶圆厂、多个发电厂以及材料和设备供应商，预计吸引约300万亿韩元的投资，创造巨大经济产值

韩国半导体供应链芯片 2024-12-30

俄罗斯芯片自研突破，死磕光刻机

前言：近日媒体报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。作者 | 方文三图片来源 | &n

光刻机俄罗斯芯片 2024-12-30

三星芯片产业快要完蛋了，韩国不甘心，计划1000亿造“韩积电”

大家都知道，现在整个芯片产业中，制造是最为关键和核心的。而制造目前先进芯片被台积电垄断，3nm芯片几乎被台积电包揽，7nm以下占到了90%，而整个代工市场，台积电一家占了65%。以前三星还似乎

芯片台积电华为 ASML 光刻机 intel 2024-12-30

镓、锗、光刻胶、超纯石英等，那些影响全球半导体的关键材料

去年以来，中国对镓、锗、锑、超硬材料、石墨等两用物项实行了出口管制措施。 12月3日，商务部发布“关于加强相关两用物项对美国出口管制的公告”：禁止两用物项对美国军事用户或

半导体镓锗光刻胶 2024-12-23

传光刻机巨头ASML芯片机密再被“偷盗”！

据荷兰媒体《NOS》报道，一名43岁的前ASML员工因涉嫌窃取ASML和芯片技术公司Mapper Lithography的微芯片手册等文件被指控，目前荷兰庇护和移民部已对其实施了为期20年的入境禁令。

光刻机 ASML 芯片 2024-12-09

国产EUV光刻机，万众瞩目，成美国芯片禁令的破局点

虽然有什么NIL纳米压印技术、又有什么BLE电子束技术，但是，目前在芯片的大规模制造中，全部是采用光刻技术。而在芯片制造的光刻技术中，最重要的就是光刻机，没有替代品。全球光刻机市场，主要掌握在

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-12-09

美国阻止中国大陆诞生台积电、英伟达，国产EUV光刻机成关键了

如果是关注芯片产业的人，应该都清楚，最近这5年以来，美国对中国半导体的打压是越来越厉害。之前各项禁令的目标，明确是要锁死我们的逻辑芯片在14nm，DRAM在18nm，NAND闪存在128层，然后限制任何能够制造这些先进芯片的设备，出口到中国来

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-12-04

韩国：大面积半导体封装技术取得进展

芝能智芯出品随着半导体技术的快速演进，先进封装逐渐成为摩尔定律延续的重要推动力之一，大面积半导体封装技术以其提升生产效率、降低成本的优势，正吸引全球产业界的关注。近期，韩国机械材料研究院（KI

封装三星半导体晶圆 2024-12-04

韩国芯片，出口井喷！

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合半导体出口同比增长30.8%，为125亿美元，创下历年同期最高纪录。在半导体需求持续增长的背景下，韩国出口恢复增长，这对政策制定者来说是一个积极的信号，他们正在寻求支撑依赖贸易的经济，并抵御特朗普关税计划带来的任何潜在阻力

韩国芯片三星电子 SK海力士 2024-12-02

三星大幅削减3D NAND生产中的光刻胶使用量

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合三星降本，供应商发愁。三星电子在其最新的 3D NAND 闪存光刻工艺中减少了厚光刻胶（PR）的使用，让成本大幅节约。然而，这一举措可能会影响其韩国供应商东进世美肯

三星电子光刻胶 2024-12-02

EUV光刻机这么重要，为什么我们不能拆了，1:1山寨出来？

在当前的芯片制造工艺（光刻工艺）下，EUV光刻机是进入7nm芯片工艺以来，必不可少的机器，没有替代品。但EUV光刻机，全球仅有一家企业能够制造，它就是ASML，没有其它的了。所以，制造出EUV

EUV 光刻机 ASML 2024-12-02

EUV光刻机巨头风云争夺战

前言：各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动

电子工程 EUV光刻机 ASML 2024-11-28

韩国芯片厂商，考虑减产LPDDR4

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）编译自digitiems 预计LPDDR4 未来两个季度单季跌幅可能超过10%。据业内人士称，韩国内存供应商有意推广LPDDR5作为主流规格，这将导致LPDDR4和LPDDR4X芯片产量减少

LPDDR4 芯片 2024-11-26

ASML画饼，将芯片工艺推至0.2nm了，好自己卖光刻机

在目前的芯片产业链里，ASML的光刻机，应该是最强有力的纽带了。因为任何芯片工艺的进步，都离不开光刻机，且全球只有ASML这么一家能够制造EUV光刻机的厂商，所以说ASML就是全球芯片产业的“皇上皇”

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-11-26

部署High-NA EUV光刻机，台积电2nm要来了

本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合采用高NA EUV光刻机对于台积电发展2nm以下工艺至关重要。据悉，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球先进的芯片制造设备——高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻机

台积电2nm High-NA EUV光刻机 2024-11-25

三星大溃败，韩国经济，也要被三星拖入困境中

众所周知，三星（指的是三星集团，三星电子只是三星集团下的一个企业）是韩国的巨无霸企业，很多韩国人从出生到死亡，都离不开三星，三星的业务遍布韩国几乎所有领域。三星对韩国有多重要？两个数字，就能说明问题，三星一家企业贡献了韩国20%的GDP和30%的股市市值

三星芯片 2024-11-25

【韩国Wellang】射频放大芯片WT20-1809

在现代通信系统中，射频放大器是必不可少的组件，主要用于射频信号放大和处理，确保信号能够在远距离传输中保持清晰和稳定，广泛应用于通信、物联网、无线连接等领域。由工采电子代理的韩国WellangW

射频放大芯片射频放大器 2024-10-30

ASML的光刻机，难以成为美国控制全球芯片的工具了

不管大家承认不承认，虽然ASML是荷兰的，但其实它更像是美国的，因为它听美国的话，美国让它不卖给谁，它不敢不听。所以ASML的EUV光刻机，不卖给中国、俄罗斯等国家，后来连浸润式DUV光刻机，也进行了限制，不能随便卖，需要许可证

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-10-30

小米的3nm和燕东微用的光刻机

文：诗与星空 ID：SingingUnderStars 最近一则消息沸沸扬扬，北京电视台在一次例行的新闻播报中，称小米自研了3nm的手机芯片。开香槟的和冷嘲热讽的皆有之，后者居多

小米光刻机燕东微 2024-10-28

业绩暴雷！ASML股价继续大跌：想卖先进光刻机给中国厂商但不被允许

快科技10月17日消息，由于业绩暴雷，这导致光刻机龙头ASML股价暴跌，而两天时间股价已跌超20%。据官方公布的数据看，阿斯麦（ASML）今年第三季度接到的订单大幅减少，总订单金额约为26亿欧元，不到上一季度近56亿欧元的一半

ASML 光刻机 2024-10-17

全球光刻机巨头业绩“爆雷”，阿斯麦单日股价跌幅创26年之最

日前，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布的财报，由于财报数据远低于预期，阿斯麦的股价在短时间内出现了大幅波动，创下了近年来的单日最大跌幅。阿斯麦发布的财报显示，公司在2024年第三季度的订单额仅为26.3亿欧元，环比下降53%，远低于市场预期的53.9亿欧元

光刻机阿斯麦 2024-10-16

韩国Greenchip触摸芯片独具防水功能，摆脱湿手困扰

在触摸设备无处不在的日常生活中，经常会遇到手指潮湿或水里时想要使用触摸屏幕设备却无法正常操作的困扰；韩国绿芯推出的触摸芯片就能够很好的解决这一难题，其独具的表面涂层技术，使其即使在水珠覆盖或水中也可以正常触摸操作，让您在任何情况下都能轻松使用设备

触摸芯片电容式触摸芯片 GT304L 2024-10-12

国产光刻机公开后，ASML慌了，请求美国放开限制，自由贸易

目前几乎所有的芯片制造技术，均是基于光刻工艺来的。而光刻工艺中，最重要的设备，就是光刻机。目前全球仅4家厂商，拥有前道光刻机生产能力，分别是荷兰的ASML、日本的佳能、尼康，中国的上海微电子。

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-10-01

美国封锁失败，努力6年后，国产光刻机从90nm，跨进65nm

众所周知，全球前道光刻机（非后道光刻机）的主要玩家就4家，分别是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，中国的上海微电子。但如果从市场份额来看，ASML占了85%以上的份额，然后尼康、佳能又占了15%左右，上海微电子的份额几乎为零

芯片台积电中芯国际 7nm 光刻机 2024-09-17

聊聊套刻精度≤8nm的国产光刻机，究竟怎么回事

近日，在工业和信息化部发布的资料中，大家看到两台国产氟化氩光刻机。其中一台写着晶圆直径300mm，波长248nm，分辨率≤110nm，套刻精度是≤25nm。而另一台写着晶圆直径300mm，波长193nm，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm